Bei der Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS) wird die Probenoberfläche mit einem Ionenstrahl Lage für Lage abgetragen. Ein Massenspektrometer ermöglicht die chemische Charakterisierung des abgetragenen Materials, so dass ein Tiefenprofil der chemischen Zusammensetzung entsteht. Technische Daten:
Das Fraunhofer IST erreicht durch den Einsatz spezieller Verfahren eine für die Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS) hohe Genauigkeit der Quantifizierung. Eine besondere Stärke ist die quantitative Tiefenprofilanalyse von Wasserstoff in kohlenstoffbasierten Schichten.
Weitere Anwendungsfelder sind:
Wir bieten die Analyse verschiedenster Schichtarten an:
Verschleißschutzschicht bestehend aus einer Ti-Haftschicht, einer TiN-Zwischenschicht, einem gestuften TiNC-Gradienten und einer TiCN(H)-Funktionsschicht.
Analyse optischer Multilayer-Schichten wie hier z. B. bei Doppel-Ag-Low-E-Schichtsystemen. Die Abbildung zeigt Doppel-Ag-Low-E-Schichtsystem aus verschiedenen oxidischen und metallischen Schichten mit Dicken zwischen 3 und 30 nm.
Die mechanischen- und tribologischen Eigenschaften von Diamond-like-Carbon-Schichten (DLC) werden durch den Wasserstoffgehalt der Kohlenstoff-Deckschicht bestimmt. Mittels SIMS-Analyse und DLC-Schichtanalyse kann dieser H-Gehalt quantitativ bestimmt werden.
Mittels SIMS-Analyse lassen sich die Tiefenprofile von gewölbten Oberflächen quantifizieren. Dabei kommt einer extrem sorgfältigen Justage der Messposition eine besondere Bedeutung zu.
Mehr Informationen zur Tiefenprofilanalyse auf gewölbten Oberflächen