Mikrostrukturierung

Fotolackprozessierung und Fotolithographie

Unsere Experten am Fraunhofer IST besitzen umfangreiche Kompetenzen für die Mikrostrukturierung und nutzen dafür vielfältige Strukturierungsverfahren und -techniken im eigenen Reinraum. Zur Herstellung hochpräziser Strukturen direkt auf Werkzeug- und Bauteiloberflächen sowie Wafern oder Glassubstraten werden klassische fotolithographische Prozesse mit Ätztechnik und Lift-Off verwendet. Durch die optimale Lackauswahl, dem Einsatz diverser Belackungstechniken sowie der Nutzung verschiedener Belichtungsverfahren können wir ein breites Spektrum an Strukturgrößen und -designs realisieren.

Oberflächenstrukturierung mittels Lasertechnologie

Zur weiteren Funktionalisierung von Oberflächen und dünnen Schichten wird die Laserstrukturierung seit vielen Jahren erfolgreich eingesetzt. Dabei können mittels eines Nanosekundenlasersystems entweder die Strukturen direkt in Substrate nahezu aller Materialklassen eingeschrieben werden oder es erfolgt eine Laser-Direktbelichtung in Kombination mit fotolithographischen Prozessen. Unsere große Erfahrungsbasis auf dem Gebiet erlaubt die Kombination verschiedener Verfahren zur Oberflächenstrukturierung, sodass auch gekrümmte Oberflächen strukturiert werden können.