Inline-Beschichtungsanlage mit Doppelrohrmagnetron zur reaktiven Al2O3-Abscheidung.
Unsere Technologien im Bereich Physikalische Gasphasenabscheidung PVD
Bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (engl.: Physical Vapor Deposition, PVD) liegt das Beschichtungsmaterial innerhalb der Vakuumkammer in flüssiger oder fester Form vor. Das Material wird atomar, als Molekül oder als Cluster in die Gasphase überführt, gelangt durch kinetische (physikalische) Bewegung zur Substratoberfläche und scheidet sich dort ab (kondensiert).
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST