7-Kammer-Durchlaufanlage zur Abscheidung von Silizium und Siliziumnitridschichten mit dem Heißdraht-CVD-Verfahren.
Unsere Technologien im Bereich der CVD
Am Fraunhofer IST stehen verschiedene Verfahren der chemischen Gashasenabscheidung (engl.: Chemical Vapor Deposition CVD) zur Verfügung. Neben verschiedenen Verfahren der heißdrahtaktivierten CVD können wir unseren Kunden die Atomlagenabscheidung (engl.: Atomic Layer Deposition ALD) sowie Verfahren der plasmaaktivierten CVD anbieten. Je nach Fragestellung und Anwendung weisen die Verfahren spezifische Vorteile auf, sprechen Sie uns an!
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST