Konforme optische Beschichtungen für komplex-geometrische Substrate

Wirtschaftliche Hochdurchsatzbeschichtungen mittels örtlicher Atomlagenabscheidung

Eine sehr hohe Schichtdickenuniformität und eine präzise Dickenkontrolle sind für optische Anwendungen unerlässlich, da Abweichungen von den Zielwerten die optische Leistung beeinträchtigen. Mit Hilfe der Atomlagenabscheidung kann eine hohe Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit der Schichtabscheidung auch auf komplex-geometrischen Substraten erreicht werden.  

Während konventionelle ALD-Anlagen zeitaufwändige Spülroutinen erfordern, ermöglicht die örtliche Atomlagenabscheidung eine hohe Beschichtungsrate unter Beibehaltung der Beschichtungstechnologievorteile. Durch die Integrationsmöglichkeit weiterer Beschichtungs- und Aktivierungstechnologien in einem Hybridbereich können die Vorteile anderer Technologien (z.B. PVD, CVD) in dieser Anlage umgesetzt werden, um innovative Schicht- und Materialsysteme für innovative Lösungen zu entwickeln.

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Am Fraunhofer IST bieten wir Kundinnen und Kunden aus Industrie und Forschung anwendungsspezifische und flexible Lösungen im Bereich konformer Batch- sowie Hochdurchsatzbeschichtungen an, und zwar von der Prozessentwicklung bis hin zur Entwicklung maßgeschneiderter Schichtsysteme.

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