Konferenzen und Workshops

Photonische Technologien spielen insbesondere vor dem anhaltenden Trend zur Digitalisierung eine Schlüsselrolle in fast allen Bereichen der Technik und des täglichen Lebens. Photonische Sensoren, integrierte Optik und miniaturisierte optische Systeme ermöglichen technologische Innovationen, neue Überwachungsmethoden und Prozessoptimierungen für die Digitalisierung und Automatisierung industrieller Produktion.

Die Herstellung solcher optischer Systeme sowie die Erschließung neuer Märkte und Anwendungen erfordert die Weiterentwicklung von Technologien und die umfassende Charakterisierung komplexer Prozesse in der Optikfertigung. Ziel ist es, diese präzise und kostengünstig zu gestalten und die Fertigungsprozesse weiterzuentwickeln, denn im Vergleich zu Prozessen in der Elektronikfertigung ist der Aufwand aufgrund des deutlich größeren Umfangs an Funktionen, Materialien und Strukturen meist höher. Gleichzeitig zeichnet sich eine zunehmende Fusion mehrerer Bereiche, wie z.B. optische Funktionalität auf Wafer-Ebene, ab, was als Wafer Level Optics bezeichnet wird.

Für Anwendungen in der miniaturisierten und integrierten Optik, für die Bildverarbeitung, für photonische Sensoren sowie in der Halbleiterindustrie sind innovative Produktionstechnologien bei optischen Beschichtungen, wie z. B. für Antireflexbeschichtungen und dielektrische Spiegel, Filter, Strahlteiler und Wellenleiter, unerlässlich. Die Sputtertechnologie ist eine dieser modernen Technologien. Im EFDS-Workshop »Sputtern für die Präzisionsoptik II« werden neue, von der Digitalisierung getriebene Trends in den Technologien und Anwendungen thematisiert. Außerdem wird beleuchtet, wie eine Vielzahl von Beschichtungsmaterialien mit den gewünschten Eigenschaften auf Optiken aus Glas, Metall oder anderen Materialien aufgebracht werden können.

Dr. Philipp Farr vom Fraunhofer IST hält im Rahmen des Workshops einen Vortrag:

11. Juni 2024, 15:50 Uhr

Optical precision on the reverse side: requirements and solutions for double-sided coatings

Dr. Philipp Farr,  Fraunhofer IST